Estudio de films delgados mesoporosos tratados con rayos X de alta intensidad

Abstract

Objetivo: estudiar films delgados mesoporosos (FDM) consolidados a partir de rayos X de alta intensidad como método alternativo al uso de altas temperaturas. Justificación: los films delgados mesoporosos de TiO₂ y SiO₂ presentan alta superficie específica y arreglo de poros controlado, lo que resulta de gran interés para aplicaciones en áreas de microelectrónica, óptica avanzada y catálisis, entre otras. Existen diversos métodos de síntesis y procesamiento reproducibles que permiten tener control sobre el espesor y el tamaño y arreglo de poros. Tradicionalmente el método de obtención de FDM involucra un tratamiento con temperatura (mayor a 200°C) para la consolidación del material. Sin embargo, en los últimos años, se ha comenzado a estudiar la posibilidad de un método alternativo (tratamiento con rayos X de alta intensidad), lo que permite no sólo evitar el tratamiento térmico si no también poder realizar patrones utilizando litografía