Modos de operación, reflectividad, topografía y microanálisis EDS acompañados de simulaciones: resolviendo desafíos en el Servicio de Microscopía Electrónica de Barrido del Centro Atómico Bariloche

Abstract

En este trabajo, estudiamos los efectos de la interacción entre el haz de electrones que generan nuestros microscopios electrónicos de barrido y los distintos materiales y muestras recibidos, para poder describir los desafíos que plantea dicha interacción en forma de imagen y acompañado de un análisis de los resultados. Las imágenes y análisis presentados aquí fueron obtenidos en nuestros microscopios electrónicos de barrido FEI-INSPECT S50, y FEI NOVA NANO SEM 230. El primero es un SEM de emisión termoiónica dotado de detectores ETD, vCD, LFD y asociado a un detector EDS (EDAX) con una resolución nominal de 8 nm a 30 kV con modos de operación de alto y bajo vacío. El segundo es un SEM de emisión de campo dotado de detectores ETD, TLD, vCD, LFD, GAD, STEM y asociado a detectores EDS (EDAX) y EBSD (EDAX) con una resolución nominal de 1.6 nm a 15 kV. Este microscopio tiene modos de operación de alto y bajo vacío.