Estudio de la estabilidad de la interfase de Cu-Ta empleando métodos clásicos y ab initio

Abstract

Las simulaciones atomísticas son capaces de proporcionar información sobre los mecanismos físicos responsables de la remarcada estabilidad estructural y la resistencia de las aleaciones inmiscibles de Cu-Ta. Para permitir simulaciones fiables de estas aleaciones, hemos desarrollado empleado un potencial, desarrollado por Forja y colaboradores [1], dependiente del ángulo (ADP) para el sistema Cu-Ta que ajusta a una gran base de datos de primeros principios y datos experimentales. Este potencial Cu-Ta se aplica para estudiar la cinética del crecimiento de grano en aleaciones nanocristalinas de Cu-Ta con diferentes composiciones químicas. Es sabido que los átomos de Ta forman cúmulos a escala nanométrica ubicados preferentemente en los límites de grano (GB) y las uniones triples [1] y que estos cúmulos fijan algunos de los GB en su lugar y causan una disminución drástica en el crecimiento de grano por el mecanismo de fijación Zener. Por lo tanto, en este trabajo presentamos un estudio detallado de distintas interfaces de Cu-Ta. Proponemos entonces un modelo de la difusión en interfaces que constituye una variación respecto de otros disponibles en literatura [2].