Se presentan los primeros resultados obtenidos en la deposición de láminas delgadas de silicio nanocristalino, utilizando toda la tecnología del silicio amorfo hidrogenado. Mediante la incorporación de hidrógeno en los gases de reacción y aumentando la potencia de R.F. se logran films compuestos por cristales dé diámetro menor a 30 nm. Las propiedades electro-ópticas medidas en estos films lo muestran promisorio como material de base para dispositivos solares de simple o múltiple juntura.