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dc.date.accessioned 2017-05-30T12:09:04Z
dc.date.available 2017-05-30T12:09:04Z
dc.date.issued 2017-05-30
dc.identifier.uri http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/60328
dc.description.abstract En este trabajo se llevaron a cabo distintos tratamientos de APQ bajo diferentes condiciones de densidad de corriente, tiempo de exposición y composición química del electrolito; que produjeron recubrimientos superficiales de óxido de titanio enriquecido en calcio y fósforo. Luego de cada tratamiento de APQ, se efectuó un tratamiento alcalino para evaluar su influencia sobre la bioactividad del recubrimiento obtenido. Para caracterizar las superficies se efectuaron observaciones topográficas mediante microscopía electrónica de barrido, ensayos de adhesión a partir del test estándar Rockwell-C y evaluación de la bioactividad mediante ensayo de simulación en fluidos corporales (SBF). es
dc.format.extent 494-500 es
dc.language es es
dc.subject Implantes Dentales es
dc.subject anodizado por plasma químico es
dc.title Estudio de los parámetros de proceso del anodizado por plasma químico en Ti-6Al-4V ELI para implantes dentales es
dc.type Objeto de conferencia es
sedici.identifier.isbn 978-950-34-1453-8 es
sedici.creator.person Azpeitia, Leticia Anahí es
sedici.creator.person Kang, Kyung Won es
sedici.creator.person Lemos Barboza, Adriana Lucila es
sedici.creator.person Llorente, Carlos Luis es
sedici.creator.person Bilmes, Pablo David es
sedici.description.note Sección: Mecánica. es
sedici.subject.materias Ingeniería Mecánica es
sedici.description.fulltext true es
mods.originInfo.place Facultad de Ingeniería es
sedici.subtype Resumen es
sedici.rights.license Creative Commons Attribution 4.0 International (CC BY 4.0)
sedici.rights.uri http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
sedici.date.exposure 2017-04
sedici.relation.event IV Jornadas de Investigación, Transferencia y Extensión de la Facultad de Ingeniería (La Plata, 2017) es
sedici.description.peerReview peer-review es


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Creative Commons Attribution 4.0 International (CC BY 4.0) Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente licencia Creative Commons Attribution 4.0 International (CC BY 4.0)