Estructuras supramoleculares basados en ácido fólico para fotoliberación controlada de sensibilizadores

Abstract

Los procesos fotosensibilizados son usados en aplicaciones que incluyen síntesis con regio- y estéreo selectividad controlada, terapia fotodinámica (PDT), fotoinactivación de microorganismos (PDI) y tratamiento de aguas para remoción de contaminantes. Estos procesos requieren de especies químicas llamadas fotosensibilizadores (Sens), que absorben radiación electromagnética en un rango espectral específico y, tras al alcanzar un estado excitado (Sens*), causan alteraciones químicas en sustratos que no absorben luz en la misma región espectral. Esta interacción entre Sens* y sustrato ocurre a través de una serie de mecanismos, siendo de nuestro interés las oxidaciones fotosensibilizadas. Existe un creciente desarrollo de estrategias dirigidas a la inmovilización de los Sens en diferentes plataformas, como nanopartículas, liposomas y polímeros. Estas estrategias buscan que los Sens adquieran ventajas respecto a su forma libre, como mejorar la interacción con el sustrato, incrementar la biocompatibilidad, optimizar los procesos fotosensibilizados, facilitar su eliminación e, idealmente, hacerlos reutilizables. La inmovilización covalente de Sens con polielectrolitos es una vía interesante porque permite la formación de estructuras supramoleculares que modulan las propiedades fotoquímicas mediante la técnica de autoensamblado electrostático capa por capa (Layer-by-Layer, LbL). En este estudio, se sintetizó un fotosensibilizador polimérico basado en el poli(clorhidrado de alilamina) (PAH) y ácido fólico (FA) como Sens.